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高能量偏振片

簡介：

高能量偏振片，主要適用于激光

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產(chǎn)品詳情

超快薄膜偏振片

超快薄膜偏振片運用薄膜鍍膜技術，在 800 和 1030nm 處實現(xiàn)最佳性能。在入射角為45° 時，這些偏振片上的離子束濺射 (IBS) 鍍膜可對 s 偏振提供超過>99.8% 的反射率，對 p 偏振提供超過 98% 的透射率。TECHSPEC 超快薄膜偏振片非常適合與超快激光源（例如 Ti:sapphire 和 Yb:doped 激光器）搭配使用。若您的應用需要使用定制尺寸或鍍膜規(guī)格的超快薄膜偏振片，請聯(lián)系我們。

注意：這些光學元件邊緣上的箭頭指向薄膜偏振片鍍膜。

非常適用于 800nm 和 1030nm 超快激光器
已針對在45° 入射角時分離 S 偏振和 P 偏振進行了優(yōu)化
在DWL具有 1000:1 的高消光比
消光比:1000:1
表面質(zhì)量:10-5
有效孔徑 (%):85
厚度 (mm):3.00 ±0.10
平行度（弧分）:<3
入射角 (°):45 ±1
涂層:Thin Film Dielectric
傳輸波前，P-V (λ):λ/10 @ 633nm
基底:Fused Silica

波長（nm）	直徑（mm）	鍍膜	產(chǎn)品編號	單價（元）
800	12.7	S1: Rs >99.8% @ 800nm, Tp >98% @ 800nm S2: Rp <0.1% @ 800nm	#13-054	2950
1030	12.7	S1: R_s >99.8% @ 1030nm, T_p >98% @ 1030nm S2: R_p <0.1% @ 1030nm	#13-055	2950
800	25.4	S1: Rs >99.8% @ 800nm, Tp >98% @ 800nm S2: Rp <0.1% @ 800nm	#12-993	3660
1030	25.4	S1: R_s >99.8% @ 1030nm, T_p >98% @ 1030nm S2: R_p <0.1% @ 1030nm	#12-992	3660

高能激光線偏振片

高能激光線偏振片用于透射P偏振光而反射S偏振光。這些偏振片具有結(jié)合了高激光損傷閾值和高消光比特點的薄膜介質(zhì)鍍膜，可以在一系列激光應用中達到最佳性能。UV級熔融石英基片能夠最大化性能，而硬質(zhì)抗反射涂層使得這款耐用的偏振片易于清洗和對齊。高能激光線偏振片可用于常見的激光波長。

高消光比達到 10,000:1
45° 入射角
消光比:10000:1
表面質(zhì)量:40-20
厚度 (mm):6.00
入射角 (°):45 ±2
透射率 (%) :>98 (P-Polarization)
傳輸波前，P-V (λ):λ/4 @ 633nm
構(gòu)造 :Thin Film Dielectric
基底:Fused Silica

波長（nm）	直徑（mm）	產(chǎn)品編號	單價（元）
355	12.5	#86-706
355	25	#86-707	4460
355	50	#86-708	8640
532	12.5	#86-709	2610
532	25	#86-710	4460
532	50	#86-711	8640
633	12.5	#86-712	2610
633	25	#86-713	4460
633	50	#86-714	8640
1064	25	#86-716	4460
1064	50	#86-717	8640

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高能量偏振片，主要適用于激光

高能量偏振片，主要適用于激光